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涂層測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)厚(hou)儀(yi)的(de)使(shi)用(yong)方(fang)法(fa)：一,由(you)于電磁(ci)(ci)場在(zai)不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)表面(mian)(mian)結(jie)構有不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)分布形式,從而(er)導致測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)誤(wu)差.為(wei)避(bi)免因(yin)操作而(er)引起的(de)誤(wu)差,在(zai)使(shi)用(yong)時,請遵循以下原則：1,使(shi)用(yong)涂層測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)厚(hou)儀(yi)在(zai)同(tong)(tong)一點重復測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)時,每(mei)次(ci)將探頭(tou)離開(kai)10cm以上,間隔幾秒鐘(zhong)后(hou)再(zai)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce),避(bi)免被測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)材(cai)料(liao)因(yin)探頭(tou)磁(ci)(ci)化(hua)后(hou),影響下次(ci)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)結(jie)果;2,使(shi)用(yong)時,平面(mian)(mian)清零(ling)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)平面(mian)(mian),凸(tu)面(mian)(mian)清零(ling)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)凸(tu)面(mian)(mian),凹面(mian)(mian)清零(ling)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)凹面(mian)(mian),避(bi)免因(yin)結(jie)構不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)而(er)產生測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)誤(wu)差;3,盡量(liang)(liang)使(shi)用(yong)被測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)材(cai)料(liao)作為(wei)調零(ling)基體,避(bi)免因(yin)不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)材(cai)料(liao)的(de)導磁(ci)(ci)性不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong),而(er)出(chu)現測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)誤(wu)差;4,盡量(liang)(liang)在(zai)被測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)材(cai)料(liao)的(de)同(tong)(tong)一部(bu)位清零(ling)后(hou),再(zai)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)相同(tong)(tong)部(bu)...